Fotovoltaika

© Fraunhofer IKTS
Sítotisk – povlakování stříbrem, galvanicky pokovený stříbrný vodič.
© Fraunhofer IKTS
EBSD analýza: Epitaktická depozice stříbra na tlusté vrstvě.
© Fraunhofer IKTS
Zvýšení efektivity elektrolytickým povlakováním seed layer ze stříbra a aerosolu.

Výroba vysoce efektivních fotovoltaických článků vyžaduje pokovení přední strany s minimálním odporem na kontaktech k polovodiči a vodičům s vysokou elektrickou vodivostí. V souvislosti s elektrolytickými procesy probíhá na Fraunhofer IKTS výzkum různých technologií.

Galvanické pokovování vrstev vyrobených sítotiskem se v průmyslu již běžně používá. Pro dosažení maximální efektivity a stability vrstev je zásadní optimální kombinace pokovení tlusté vrstvy a vhodné elektrolytické lázně tak, aby bylo docíleno maximální efektivity a stability vrstev. Výzkum se proto soustřeďuje na optimalizaci a výběr vhodné kombinace pokovení a galvanické lázně.

Kombinace různých druhů pokovení se nabízí tehdy, kdy lze uplatnit jedinečné výhody každé z kombinovaných technologií. Například u tzv. Seed layer (aerosolový tisk) jsou vrstvy galvanicky pokoveny, čímž je zajištěna jednotná úroveň efektivity článků. Alternativou k této metodě je přímé pokovování fotovoltaických waferů vícečetnou depozicí kombinací kovů niklu a stříbra a také niklu, mědi a cínu.

 

Nabídka služeb

 

  • Výzkum interakce mezi tlustou vrstvou a elektrolytem
  • Optimalizace metod a lázní v závislosti na substrátu tlusté vrstvy
  • Elektrolytické pokovování seed layer (stříbro, nikl, měď, cín)