Dünnschicht-Technologien

Gruppe

In der Arbeitsgruppe werden hauptsächlich CVD-Technologien für verschiedene Anwendungsfelder eingesetzt bzw. entwickelt. Es kommen verschiedene Verfahren zum Einsatz: thermische CVD-Prozesse bei reduziertem oder Atmosphärendruck (LPCVD, APCVD), plasmagestütztes CVD (PACVD) und Atomlagenabscheidung (ALD). Bei einigen Anwendungen erfolgt eine Kombination von CVD- mit Sol-Gel-Schichten. Werkstoffseitig stehen Hartstoffschichten, Schichten aus gerichteten Carbon Nanotubes (CNT) und nanoskalige Dielektrika auf der Basis von Hafnium-, Zirkon- und Titanoxiden sowie von Perowskiten im Mittelpunkt. Die Anwendungen reichen vom Verschleißschutz über die Aktorik, Sensorik, Energietechnik bis hin zur Mikroelektronik. Die Herstellung neuer Dünnschichtmaterialien erfordert auch die Modifizierung  bekannter bzw. die Entwicklung neuer CVD-Technologien. Dies umfasst den Test neuer Precursorsysteme sowie die Durchführung detaillierter Parameterstudien. Unterstützt werden die Untersuchungen durch thermodynamische Berechnungen und durch eine umfassende Charakterisierung von Zusammensetzung, Struktur und Eigenschaften der Schichten.

 

Leistungsangebot

 

  • Herstellung von Schichtsystemen aus Hartstoffen, gerichteten Carbon Nanotubes, nanoskaligen Metalloxiden und Perowskiten
  • Modifizierung bekannter und Entwicklung neuer CVD- und ALD-Technologien, Untersuchung neuer Precursorsysteme
  • Musterbeschichtungen
  • Komplexe Schichtcharakterisierung
  • Thermodynamische Berechnungen zu CVD-Systemen

Forschung aktuell

Oberflächenkonforme Pulverbeschichtung mittels ALD- und CVD-Verfahren

Forschung aktuell

Funktionale Dünnschichten mittels ALD

Thema

CVD-Hartstoffschichten

Thema

Gerichtete Carbon-Nanotube-Strukturen

Thema

Nanoskalige ALD- und Sol-Gel-Schichten

Thema

Öffentlich geförderte Projekte