Fraunhofer-Institut für Keramische Technologien und Systeme IKTSDie Ellipsometrie ist ein Verfahren, das zur Analyse von Schichtdicken und optischen Eigenschaften in Dünnschichten eingesetzt wird. Damit lassen sich transparente und teiltransparente Schichten und Oberflächen mit einer Auflösung bis unter einem Nanometer zerstörungsfrei untersuchen. Die Hauptanwendungen liegen in der Bestimmung von Schichtdicken und Brechungsindizes für Hersteller von Mehrschichtsystemen sowie Unternehmen der Mikroelektronik.
Ellipsometrie-Nutzung für biologische In-situ-Experimente
Am Fraunhofer IKTS wird die Ellipsometrie außerdem genutzt, um mithilfe einer Flüssigmesszelle die Adsorption von Proteinen zu erforschen. Die Flüssigmesszelle im Strahlengang des Ellipsometers erlaubt den Wissenschaftlern Degradations- und Adsorptionsprozesse direkt zu untersuchen.
Gegenwärtig steht eine Flüssigmesszelle mit maximal fünf Millilitern und einem Durchmesser von 20 Millimetern zur Verfügung. Das Messverfahren kann für verschiedene Anwendungen adaptiert werden.
Ellipsometrie-Leistungsangebot
- Schichtdickenbestimmung (1 bis 1000 nm)
- Bestimmen der optische Eigenschaften
- Statische und dynamische Schichtdickenmessung
- In-Situ: Analysieren der Degradation und Adsorption (z. B. bei Korrosion, Proteinadsorption)
Technische Details zur Ellipsometrie
- Spektroskopisches Ellipsometer SE850: 240 bis 850 nm (SENTECH Instruments GmbH)
- Großer programmierbarer Mapping-Tisch
- Auflösung: < 1 nm
- Mehrschichtsysteme aus transparenten und halbtransparenten Materialien
- Probengröße Flüssigmesszelle: < Ø 20 mm
- Nicht-invasives, berührungsfreies Messverfahren
- Keine ionisierende Strahlung
